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CMP化学机械抛光预清洗剂
发布时间:2018-07-23]  阅读次数:549次

来源:分析测试百科网

四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液,在晶片生产中用作CMP(化学机械抛光)预清洗剂,或在半导体领域的光刻工艺中作为显影剂。为了完全润湿晶片表面,通常会在TMAH溶液中加入表面活性剂以降低其表面张力。确保一个稳定且不与表面几何形状相关的蚀刻过程。

动态表面张力(随时间变化的润湿行为)对涂层的均匀性和一致性有着非常重要的影响,静态测量法如吊片和拉环的方法并不适用于这类问题的分析,因为他们测量的是静态表面张力而非动态表面张力。此外,使用静态法测量后,必须对测试设备进行非常复杂的清洗,这会耗费大量的时间。德国SITA公司根据不同的应用领域,提供不同的解决方案以检测槽液配方的表面张力。基于创新的气泡压力法,SITA表面张力仪可以精确、快速的测量动态表面张力,从动态到准静态的表面张力 。

TMAH溶液表面张力测试

SITA DynoTester是一个非常灵活、轻便的手持式表面张力测试仪,非常适用于工艺过程中质量的监控,可进行现场测量,测试时间短,测试结果能立即与所需值作对比。因此,SITA DynoTester 可对TMAH溶液的润湿性能进行简便快捷的分析。操作简单,无需任何专业经验,仪器的所有功能都可通过仪器上的按键实现。

对于高要求的TMAH溶液,以及需对检测结果进行连续监控的情况,SITA 公司推荐使用过程监控系统--SITA Clean Line ST。这一系统直接集成在工艺过程中,定期测量表面张力,并在设定的范围内自动比较数据,因此我们可在表

面活性剂浓度超出限定值后,在短时间内采取相关处理措施。设备至少可以储存一整年的测试数据,如果需要进行长期数据存储,则可以通过USB 端口将数据传输到计算机。 SITA的表面张力仪可以可靠的监控槽液的质量,为研发和清洗工艺过程建立良好的基础进而获得高质量结果。此外,表面张力检测还能避免过量使用表面活性剂,从而降低生产成本。



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