来源：分析测试百科网

主要特点：

1.三镀槽室设计，可对基片镀同种/不同种膜
2.镀槽结构简单，操作方便；组合式设计，升级方便
3.反馈控制的对称膜压缩，确保膜均匀一致
4.系统可带有各种在线膜表征设备
5.计算机控制, 软件数据处理功能强大