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　　记者日前从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队已自主研制出一种新型紫外纳米压印光刻机，其成本仅为国外同类设备1/3，将有力推进我国芯片加工等微纳级结构器件制造水平迈上新的台阶。

　　光刻机是微纳图形加工的专用高端设备。光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍，这套设备采用新型纳米对准技术，将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级。“对准是光刻设备三大核心指标之一，是实现功能化器件加工的关键。”胡松表示，在国家自然基金的连续资助下，光电所研究团队完成了基于莫尔条纹的高精度对准技术自主研发，取得专利20余项。该技术在光刻机中的成功应用，突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题，为高精度纳米器件的加工提供了技术保障，未来可广泛应用于微纳流控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅等微纳结构器件的制备，目前该设备已完成初试和小批生产。